hae_ʻaoʻao

Nā ʻāpana ʻokoʻa seramika Semicon

  • Papa Keramika Alumina Hoʻonohonoho Nui no nā Mea Hana Semiconductor a me nā Mea Hana ʻOihana

    Papa Keramika Alumina Hoʻonohonoho Nui no nā Mea Hana Semiconductor a me nā Mea Hana ʻOihana

    Hana ʻo St.Cera i nā papa keramika nui mai ka 99.8% alumina maʻemaʻe kiʻekiʻe (Al₂O₃) me nā ana kiʻekiʻe a hiki i ka 1500mm ka lōʻihi a me 600mm ka laulā. Loaʻa i kā mākou hiki ke wili pololei i ka pālahalaha o 0.003mm ma luna o 100mm a me ka parallelism o 0.002mm, e hōʻoiaʻiʻo ana i ka maikaʻi o ka ʻili no nā noi ʻāpana nui. ʻO ka mānoanoa a hiki i ka 100mm, ka hoʻopau ʻana o ka ʻili a hiki i Ra0.1. Hana kēia mau papa ma ke ʻano he kumu chuck vacuum, nā platens hoʻomehana, nā panela insulation uila, a me nā papahele keʻena hana i ka semiconductor, ka hōʻike, a me ka hana photovoltaic. Loaʻa nā lua ma o nā lua, nā counterbores, a me ka profiling lihi.

     

  • ʻO ST.CERA Semiconductor i hoʻopilikino ʻia ʻo Ceramic bushing

    ʻO ST.CERA Semiconductor i hoʻopilikino ʻia ʻo Ceramic bushing

    Pono e hana ʻia ke kaʻina hana koʻikoʻi o ke kahua semiconductor i loko o ka lumi maʻemaʻe, ʻoi aku hoʻi no kēlā mau mea hana e hoʻohana ʻia ma lalo o nā kūlana o ke ana wela kiʻekiʻe, ka vacuum a me ke kinoea corrosive. Hiki i nā keramika ke mālama i ke kūpaʻa kiʻekiʻe i kahi ʻano kino a me ke kemika paʻakikī.

  • ʻO ST.CERA nā lako semiconductor i hoʻopilikino ʻia Nā chucks seramika

    ʻO ST.CERA nā lako semiconductor i hoʻopilikino ʻia Nā chucks seramika

    Pono e hana ʻia ke kaʻina hana koʻikoʻi o ke kahua semiconductor i loko o ka lumi maʻemaʻe, ʻoi aku hoʻi no kēlā mau mea hana e hoʻohana ʻia ma lalo o nā kūlana o ke ana wela kiʻekiʻe, ka vacuum a me ke kinoea corrosive. Hiki i nā keramika ke mālama i ke kūpaʻa kiʻekiʻe i kahi ʻano kino a me ke kemika paʻakikī.

  • ʻO ST.CERA Nā lako semiconductor i hoʻopilikino ʻia Papa seramika

    ʻO ST.CERA Nā lako semiconductor i hoʻopilikino ʻia Papa seramika

    Pono e hana ʻia ke kaʻina hana koʻikoʻi o ke kahua semiconductor i loko o ka lumi maʻemaʻe, ʻoi aku hoʻi no kēlā mau mea hana e hoʻohana ʻia ma lalo o nā kūlana o ke ana wela kiʻekiʻe, ka vacuum a me ke kinoea corrosive. Hiki i nā keramika ke mālama i ke kūpaʻa kiʻekiʻe i kahi ʻano kino a me ke kemika paʻakikī.

  • ST.CERA Semiconductor i hoʻopilikino ʻia ke apo hoʻoikaika seramika

    ST.CERA Semiconductor i hoʻopilikino ʻia ke apo hoʻoikaika seramika

    Pono e hana ʻia ke kaʻina hana koʻikoʻi o ke kahua semiconductor i loko o ka lumi maʻemaʻe, ʻoi aku hoʻi no kēlā mau mea hana e hoʻohana ʻia ma lalo o nā kūlana o ke ana wela kiʻekiʻe, ka vacuum a me ke kinoea corrosive. Hiki i nā keramika ke mālama i ke kūpaʻa kiʻekiʻe i kahi ʻano kino a me ke kemika paʻakikī.

  • Apo Hoʻoikaika Keramika Semiconductor i hoʻopilikino ʻia ʻo ST.CERA

    Apo Hoʻoikaika Keramika Semiconductor i hoʻopilikino ʻia ʻo ST.CERA

    Hana ʻia me ka seramika alumina maʻemaʻe kiʻekiʻe (ʻoi aku ma mua o 99.5%), i hoʻokumu ʻia e ke kaomi isostatic anu a sintered ma lalo o ke kiʻekiʻe wela, a laila mīkini pololei a poli ʻia, hiki i nā ʻāpana ʻokoʻa seramika ke hoʻokō i nā koi koʻikoʻi o nā lako semiconductor me kona mau hiʻohiʻona o ke kūpaʻa ʻana i ke kapa, ke kūpaʻa ʻana i ka corrosion, ka hoʻonui wela haʻahaʻa, a me ka insulation.

    Me nā hiʻohiʻona o ke kūpaʻa wela kiʻekiʻe, ke kūpaʻa i ka pala, ke kūpaʻa i ka abrasion a me ka insulation, hiki i ka keramika ke hana i nā ʻano lako hana semiconductor me ke kūlana o ke mahana kiʻekiʻe, ka vacuum a i ʻole ke kinoea corrosive no ka manawa lōʻihi.

    Hana ʻia mai ka pauka alumina maʻemaʻe kiʻekiʻe, i hana ʻia e ke kaomi isostatic anu, ka sintering wela kiʻekiʻe a me ka hoʻopau pololei, hiki iā ia ke hōʻea i ka hoʻomanawanui ana i ka ± 0.001 mm, ka hoʻopau ʻana o ka ʻili Ra 0.1, ke kūpaʻa mahana 1600 ℃.

  • ʻO ST.CERA Semiconductor Precision Alumina Ceramic Bushing i hoʻopilikino ʻia

    ʻO ST.CERA Semiconductor Precision Alumina Ceramic Bushing i hoʻopilikino ʻia

    Hana ʻia me ka seramika alumina maʻemaʻe kiʻekiʻe (ʻoi aku ma mua o 99.5%), i hoʻokumu ʻia e ke kaomi isostatic anu a sintered ma lalo o ke kiʻekiʻe wela, a laila mīkini pololei a poli ʻia, hiki i nā ʻāpana ʻokoʻa seramika ke hoʻokō i nā koi koʻikoʻi o nā lako semiconductor me kona mau hiʻohiʻona o ke kūpaʻa ʻana i ke kapa, ke kūpaʻa ʻana i ka corrosion, ka hoʻonui wela haʻahaʻa, a me ka insulation.

    Me nā hiʻohiʻona o ke kūpaʻa wela kiʻekiʻe, ke kūpaʻa i ka pala, ke kūpaʻa i ka abrasion a me ka insulation, hiki i ka keramika ke hana i nā ʻano lako hana semiconductor me ke kūlana o ke mahana kiʻekiʻe, ka vacuum a i ʻole ke kinoea corrosive no ka manawa lōʻihi.

    Hana ʻia mai ka pauka alumina maʻemaʻe kiʻekiʻe, i hana ʻia e ke kaomi isostatic anu, ka sintering wela kiʻekiʻe a me ka hoʻopau pololei, hiki iā ia ke hōʻea i ka hoʻomanawanui ana i ka ± 0.001 mm, ka hoʻopau ʻana o ka ʻili Ra 0.1, ke kūpaʻa mahana 1600 ℃.

  • Nā ʻāpana lako hana Semiconductor hopena seramika alumina

    Nā ʻāpana lako hana Semiconductor hopena seramika alumina

    E pale i nā ʻāpana e hiki ke hana mai nā ʻaoʻao bevel a i ʻole ke kihi a me ka ʻili hope i ka wā e lawe ʻia ai nā wafers a i ʻole e pili ana me ka End Effector / Handling Arm.

    No nā alakaʻi, ua hoʻohana ʻia kahi mea palupalu i ʻole e hōʻino i ka wafer.

    Hiki ke hoʻomāmā ʻia me ka ʻenehana kahawai hakahaka i kūkulu ʻia a ST.CERA ʻaʻole hoʻi e hoʻohana i nā mea hoʻopili.

    Hiki ke hana i nā lua kau ʻana a hoʻololi i ka lōʻihi a me ka laulā o ke kumu kahi i kau ʻia ai ka End Effector / Handling Arm ma ka robot.

    Loaʻa nā mea ʻike hoʻopaʻa, nā wili a me nā pale ma ke ʻano he koho.

    Hoʻolālā ʻia e hoʻohana ʻia i ka lewa.

  • Nā ʻāpana kūkulu keramika alumina kūpaʻa kiʻekiʻe

    Nā ʻāpana kūkulu keramika alumina kūpaʻa kiʻekiʻe

    ʻO nā ʻāpana kūkulu seramika kahi huaʻōlelo maʻamau o nā ʻano paʻakikī like ʻole o nā ʻāpana seramika. Hoʻokumu ʻia ia ma ke kaomi maloʻo a i ʻole ke kaomi isostatic anuanu, a hoʻoheheʻe ʻia ma lalo o ke ana wela kiʻekiʻe, a laila mīkini pololei.

    Hana ʻia mai ka pauka alumina maʻemaʻe kiʻekiʻe, i hana ʻia e ke kaomi isostatic anu, ka sintering wela kiʻekiʻe a me ka hoʻopau pololei, hiki iā ia ke hōʻea i ka hoʻomanawanui ana i ka ± 0.001 mm, ka hoʻopau ʻana o ka ʻili Ra 0.1, ke kūpaʻa mahana 400 ℃ ~ 800 ℃.

  • Nā Keramika Kiʻekiʻe a me ka Paʻakikī no nā ʻĀpana Kūkulu Keramika Alumina

    Nā Keramika Kiʻekiʻe a me ka Paʻakikī no nā ʻĀpana Kūkulu Keramika Alumina

    ʻO nā ʻāpana kūkulu seramika kahi huaʻōlelo maʻamau o nā ʻano paʻakikī like ʻole o nā ʻāpana seramika. Hoʻokumu ʻia ia ma ke kaomi maloʻo a i ʻole ke kaomi isostatic anuanu, a hoʻoheheʻe ʻia ma lalo o ke ana wela kiʻekiʻe, a laila mīkini pololei.

    Hana ʻia mai ka pauka alumina maʻemaʻe kiʻekiʻe, i hana ʻia e ke kaomi isostatic anu, ka sintering wela kiʻekiʻe a me ka hoʻopau pololei, hiki iā ia ke hōʻea i ka hoʻomanawanui ana i ka ± 0.001 mm, ka hoʻopau ʻana o ka ʻili Ra 0.1, ke kūpaʻa mahana 400 ℃ ~ 800 ℃.

  • Nā ʻāpana hoʻokoe no nā lako hana mīkini o nā ʻāpana kūkulu keramika alumina

    Nā ʻāpana hoʻokoe no nā lako hana mīkini o nā ʻāpana kūkulu keramika alumina

    ʻO nā ʻāpana kūkulu seramika kahi huaʻōlelo maʻamau o nā ʻano paʻakikī like ʻole o nā ʻāpana seramika. Hoʻokumu ʻia ia ma ke kaomi maloʻo a i ʻole ke kaomi isostatic anuanu, a hoʻoheheʻe ʻia ma lalo o ke ana wela kiʻekiʻe, a laila mīkini pololei.

    Hana ʻia mai ka pauka alumina maʻemaʻe kiʻekiʻe, i hana ʻia e ke kaomi isostatic anu, ka sintering wela kiʻekiʻe a me ka hoʻopau pololei, hiki iā ia ke hōʻea i ka hoʻomanawanui ana i ka ± 0.001 mm, ka hoʻopau ʻana o ka ʻili Ra 0.1, ke kūpaʻa mahana 400 ℃ ~ 800 ℃.

  • Nā ʻāpana kūkulu keramika hoʻokaʻawale ʻia o ka Alumina Ceramic Strip

    Nā ʻāpana kūkulu keramika hoʻokaʻawale ʻia o ka Alumina Ceramic Strip

    ʻO nā ʻāpana kūkulu seramika kahi huaʻōlelo maʻamau o nā ʻano paʻakikī like ʻole o nā ʻāpana seramika. Hoʻokumu ʻia ia ma ke kaomi maloʻo a i ʻole ke kaomi isostatic anuanu, a hoʻoheheʻe ʻia ma lalo o ke ana wela kiʻekiʻe, a laila mīkini pololei.

    Hana ʻia mai ka pauka alumina maʻemaʻe kiʻekiʻe, i hana ʻia e ke kaomi isostatic anu, ka sintering wela kiʻekiʻe a me ka hoʻopau pololei, hiki iā ia ke hōʻea i ka hoʻomanawanui ana i ka ± 0.001 mm, ka hoʻopau ʻana o ka ʻili Ra 0.1, ke kūpaʻa mahana 400 ℃ ~ 800 ℃.

1234Aʻe >>> ʻAoʻao 1 / 4