-
ʻO ka lawelawe ʻana o ka wafer alumina i ka hopena hopena semiconductor ceramics
E pale i nā ʻāpana e hiki ke hana mai nā ʻaoʻao bevel a i ʻole ke kihi a me ka ʻili hope i ka wā e lawe ʻia ai nā wafers a i ʻole e pili ana me ka End Effector / Handling Arm.
No nā alakaʻi, ua hoʻohana ʻia kahi mea palupalu i ʻole e hōʻino i ka wafer.
Hiki ke hoʻomāmā ʻia me ka ʻenehana kahawai hakahaka i kūkulu ʻia a ST.CERA ʻaʻole hoʻi e hoʻohana i nā mea hoʻopili.
Hiki ke hana i nā lua kau ʻana a hoʻololi i ka lōʻihi a me ka laulā o ke kumu kahi i kau ʻia ai ka End Effector / Handling Arm ma ka robot.
Loaʻa nā mea ʻike hoʻopaʻa, nā wili a me nā pale ma ke ʻano he koho.
Hoʻolālā ʻia e hoʻohana ʻia i ka lewa.
-
Ka lawelawe ʻana o ka wafer o ka Ceramic End Effector
E pale i nā ʻāpana e hiki ke hana mai nā ʻaoʻao bevel a i ʻole ke kihi a me ka ʻili hope i ka wā e lawe ʻia ai nā wafers a i ʻole e pili ana me ka End Effector / Handling Arm.
No nā alakaʻi, ua hoʻohana ʻia kahi mea palupalu i ʻole e hōʻino i ka wafer.
Hiki ke hoʻomāmā ʻia me ka ʻenehana kahawai hakahaka i kūkulu ʻia a ST.CERA ʻaʻole hoʻi e hoʻohana i nā mea hoʻopili.
Hiki ke hana i nā lua kau ʻana a hoʻololi i ka lōʻihi a me ka laulā o ke kumu kahi i kau ʻia ai ka End Effector / Handling Arm ma ka robot.
Loaʻa nā mea ʻike hoʻopaʻa, nā wili a me nā pale ma ke ʻano he koho.
Hoʻolālā ʻia e hoʻohana ʻia i ka lewa.
-
ʻO ka lima lawelawe wafer seramika alumina seramika pololei
Me nā hiʻohiʻona o ke kūpaʻa wela kiʻekiʻe, ke kūpaʻa i ka pala, ke kūpaʻa i ka abrasion a me ka insulation, hiki i ka keramika ke hana i nā ʻano lako hana semiconductor me ke kūlana o ke mahana kiʻekiʻe, ka vacuum a i ʻole ke kinoea corrosive no ka manawa lōʻihi.
Hana ʻia mai ka pauka alumina maʻemaʻe kiʻekiʻe, i hana ʻia e ke kaomi isostatic anu, ka sintering wela kiʻekiʻe a me ka hoʻopau pololei, hiki iā ia ke hōʻea i ka hoʻomanawanui ana i ka ± 0.001 mm, ka hoʻopau ʻana o ka ʻili Ra 0.1, ke kūpaʻa mahana 1600 ℃.
-
Nā ʻāpana lako hana semiconductor lima seramika alumina insulated
E pale i nā ʻāpana e hiki ke hana mai nā ʻaoʻao bevel a i ʻole ke kihi a me ka ʻili hope i ka wā e lawe ʻia ai nā wafers a i ʻole e pili ana me ka End Effector / Handling Arm.
No nā alakaʻi, ua hoʻohana ʻia kahi mea palupalu i ʻole e hōʻino i ka wafer.
Hiki ke hoʻomāmā ʻia me ka ʻenehana kahawai hakahaka i kūkulu ʻia a ST.CERA ʻaʻole hoʻi e hoʻohana i nā mea hoʻopili.
Hiki ke hana i nā lua kau ʻana a hoʻololi i ka lōʻihi a me ka laulā o ke kumu kahi i kau ʻia ai ka End Effector / Handling Arm ma ka robot.
Loaʻa nā mea ʻike hoʻopaʻa, nā wili a me nā pale ma ke ʻano he koho.
Hoʻolālā ʻia e hoʻohana ʻia i ka lewa
-
Nā ʻAno Paʻakikī o ka Lima Ceramic Precision Ceramic Handling Wafer
E pale i nā ʻāpana e hiki ke hana mai nā ʻaoʻao bevel a i ʻole ke kihi a me ka ʻili hope i ka wā e lawe ʻia ai nā wafers a i ʻole e pili ana me ka End Effector / Handling Arm.
No nā alakaʻi, ua hoʻohana ʻia kahi mea palupalu i ʻole e hōʻino i ka wafer.
Hiki ke hoʻomāmā ʻia me ka ʻenehana kahawai hakahaka i kūkulu ʻia a ST.CERA ʻaʻole hoʻi e hoʻohana i nā mea hoʻopili.
Hiki ke hana i nā lua kau ʻana a hoʻololi i ka lōʻihi a me ka laulā o ke kumu kahi i kau ʻia ai ka End Effector / Handling Arm ma ka robot.
Loaʻa nā mea ʻike hoʻopaʻa, nā wili a me nā pale ma ke ʻano he koho.
Hoʻolālā ʻia e hoʻohana ʻia i ka lewa
-
ʻO ka lima robotic seramika alumina me ka paʻakikī paʻakikī a me ke kūpaʻa kiʻekiʻe
E pale i nā ʻāpana e hiki ke hana mai nā ʻaoʻao bevel a i ʻole ke kihi a me ka ʻili hope i ka wā e lawe ʻia ai nā wafers a i ʻole e pili ana me ka End Effector / Handling Arm.
No nā alakaʻi, ua hoʻohana ʻia kahi mea palupalu i ʻole e hōʻino i ka wafer.
Hiki ke hoʻomāmā ʻia me ka ʻenehana kahawai hakahaka i kūkulu ʻia a ST.CERA ʻaʻole hoʻi e hoʻohana i nā mea hoʻopili.
Hiki ke hana i nā lua kau ʻana a hoʻololi i ka lōʻihi a me ka laulā o ke kumu kahi i kau ʻia ai ka End Effector / Handling Arm ma ka robot.
Loaʻa nā mea ʻike hoʻopaʻa, nā wili a me nā pale ma ke ʻano he koho.
Hoʻolālā ʻia e hoʻohana ʻia i ka lewa
-
Ka lawelawe ʻana o ka wafer hopena seramika alumina
Me nā hiʻohiʻona o ke kūpaʻa wela kiʻekiʻe, ke kūpaʻa i ka pala, ke kūpaʻa i ka abrasion a me ka insulation, hiki i ka keramika ke hana i nā ʻano lako hana semiconductor me ke kūlana o ke mahana kiʻekiʻe, ka vacuum a i ʻole ke kinoea corrosive no ka manawa lōʻihi.
Hana ʻia mai ka pauka alumina maʻemaʻe kiʻekiʻe, i hana ʻia e ke kaomi isostatic anu, ka sintering wela kiʻekiʻe a me ka hoʻopau pololei, hiki iā ia ke hōʻea i ka hoʻomanawanui ana i ka ± 0.001 mm, ka hoʻopau ʻana o ka ʻili Ra 0.1, ke kūpaʻa mahana 1600 ℃.
-
Nā ʻāpana mīkini seramika no nā lako kūikawā
E pale i nā ʻāpana e hiki ke hana mai nā ʻaoʻao bevel a i ʻole ke kihi a me ka ʻili hope i ka wā e lawe ʻia ai nā wafers a i ʻole e pili ana me ka End Effector / Handling Arm.
No nā alakaʻi, ua hoʻohana ʻia kahi mea palupalu i ʻole e hōʻino i ka wafer.
Hiki ke hoʻomāmā ʻia me ka ʻenehana kahawai hakahaka i kūkulu ʻia a ST.CERA ʻaʻole hoʻi e hoʻohana i nā mea hoʻopili.
Hiki ke hana i nā lua kau ʻana a hoʻololi i ka lōʻihi a me ka laulā o ke kumu kahi i kau ʻia ai ka End Effector / Handling Arm ma ka robot.
Loaʻa nā mea ʻike hoʻopaʻa, nā wili a me nā pale ma ke ʻano he koho.
Hoʻolālā ʻia e hoʻohana ʻia i ka lewa
-
Ka Mīkini Pololei a me ka Punching o nā Lāʻau Seramika Alumina
Hana ʻia me ka pauka keramika maʻemaʻe kiʻekiʻe, hana ʻia ke koʻokoʻo keramika ma ke kaomi maloʻo a i ʻole ke kaomi isostatic anuanu, a sintered ma lalo o ke ana wela kiʻekiʻe, a laila mīkini pololei. Me nā pono he nui e like me ke kū'ē ʻana i ka abrasion, ke kū'ē ʻana i ka corrosion, ka paʻakikī kiʻekiʻe, ka paʻakikī kiʻekiʻe a me ke koina friction haʻahaʻa, hoʻohana nui ʻia ia i nā lako lapaʻau, nā mīkini kikoʻī, laser, metrology a me nā lako nānā. Hiki iā ia ke hana ma nā kūlana o ka waikawa a me ka alkali no ka manawa lōʻihi, a hiki i ka mahana kiʻekiʻe a hiki i ka 1600 ℃.
-
ʻO ka Alumina Precision Ceramic no ka hoʻohana pilikino
ʻO nā ʻāpana kūkulu seramika kahi huaʻōlelo maʻamau o nā ʻano paʻakikī like ʻole o nā ʻāpana seramika. Hoʻokumu ʻia ia ma ke kaomi maloʻo a i ʻole ke kaomi isostatic anuanu, a hoʻoheheʻe ʻia ma lalo o ke ana wela kiʻekiʻe, a laila mīkini pololei.
Hana ʻia mai ka pauka alumina maʻemaʻe kiʻekiʻe, i hana ʻia e ke kaomi isostatic anu, ka sintering wela kiʻekiʻe a me ka hoʻopau pololei, hiki iā ia ke hōʻea i ka hoʻomanawanui ana i ka ± 0.001 mm, ka hoʻopau ʻana o ka ʻili Ra 0.1, ke kūpaʻa mahana 400 ℃ ~ 800 ℃.
-
Apo Keramika Precision Alumina
Hoʻokumu ʻia e ke kaomi isostatic anu a sintered ma lalo o ke ana wela kiʻekiʻe, a laila mīkini pololei a hoʻopili ʻia, hiki i nā ʻāpana ʻokoʻa seramika ke hoʻokō i nā koi koʻikoʻi o nā lako semiconductor me kona mau hiʻohiʻona o ke kūpaʻa ʻana i ka ʻaʻahu, ke kūpaʻa ʻana i ka palaho, ka hoʻonui wela haʻahaʻa, a me ka insulation. Hiki i nā seramika ke hana i nā ʻano lako hana semiconductor me ke kūlana o ke ana wela kiʻekiʻe, ka vacuum a i ʻole ke kinoea corrosive no ka manawa lōʻihi.
Hana ʻia mai ka pauka alumina maʻemaʻe kiʻekiʻe, i hana ʻia e ke kaomi isostatic anu, ka sintering wela kiʻekiʻe a me ka hoʻopau pololei, hiki iā ia ke hōʻea i ka hoʻomanawanui ana i ka ± 0.001 mm, ka hoʻopau ʻana o ka ʻili Ra 0.1, ke kūpaʻa mahana 1600 ℃.
-
lima keramika alumina
Hoʻokumu ʻia e ke kaomi isostatic anu a sintered ma lalo o ke ana wela kiʻekiʻe, a laila mīkini pololei a hoʻopili ʻia, hiki i nā ʻāpana ʻokoʻa seramika ke hoʻokō i nā koi koʻikoʻi o nā lako semiconductor me kona mau hiʻohiʻona o ke kūpaʻa ʻana i ka ʻaʻahu, ke kūpaʻa ʻana i ka palaho, ka hoʻonui wela haʻahaʻa, a me ka insulation. Hiki i nā seramika ke hana i nā ʻano lako hana semiconductor me ke kūlana o ke ana wela kiʻekiʻe, ka vacuum a i ʻole ke kinoea corrosive no ka manawa lōʻihi.
Hana ʻia mai ka pauka alumina maʻemaʻe kiʻekiʻe, i hana ʻia e ke kaomi isostatic anu, ka sintering wela kiʻekiʻe a me ka hoʻopau pololei, hiki iā ia ke hōʻea i ka hoʻomanawanui ana i ka ± 0.001 mm, ka hoʻopau ʻana o ka ʻili Ra 0.1, ke kūpaʻa mahana 1600 ℃.
